特許
J-GLOBAL ID：200903085116583942

超高純度ガスの製造方法及び製造装置

発明者：
山下 直彦

山下 直彦 について


出願人/特許権者：
日本エア・リキード株式会社

日本エア・リキード株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 崇生 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097142
公開番号（公開出願番号）：特開2000-292055
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 2000年10月20日
要約：
【要約】【課題】 装置構成が簡易でコスト面でも有利であり、しかも超高純度ガスの純度を高く維持することができる超高純度ガスの製造方法、及びその装置を提供する。【解決手段】 予備精製した原料流体を第1精留塔10で精製し、得られた高純度流体を第2精留塔20に導いて、更に精製することで超高純度ガスを製造する工程を有する超高純度ガスの製造方法において、前記第1精留塔10の前記原料流体の供給部より塔頂側の還流液の一部を、流量調節しつつ前記第2精留塔20の塔頂部に導いてその還流液とし、その塔頂部のガスを前記第1精留塔10の塔頂側に戻しながら、前記第2精留塔20の精留部21又は塔底部から超高純度物質を回収することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
予備精製した原料流体を第1精留塔で精製し、得られた高純度流体を第2精留塔に導いて、更に精製することで超高純度ガスを製造する工程を有する超高純度ガスの製造方法において、前記第1精留塔の前記原料流体の供給部より塔頂側の還流液の一部を、流量調節しつつ前記第2精留塔の塔頂部に導いてその還流液とし、その塔頂部のガスを前記第1精留塔の塔頂側に戻しながら、前記第2精留塔の精留部又は塔底部から超高純度物質を回収することを特徴とする超高純度ガスの製造方法。
Fターム (4件)：
4D047AA01 ,  4D047AB04 ,  4D047CA03 ,  4D047DA05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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