特許
J-GLOBAL ID：200903085116681871
洗浄方法および洗浄水の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
岩橋 文雄
, 坂口 智康
, 内藤 浩樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-279823
公開番号（公開出願番号）：特開2005-045159
出願日： 2003年07月25日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】半導体装置基板上に形成された微細なULSIパターンに対し、超音波を用いてもダメージを与えることなく異物を効率よく除去する洗浄方法、及び洗浄水の製造方法を提供する。【解決手段】超音波振動を伝播させる洗浄水として、過飽和濃度かつ多量の気泡を含んだ溶存ガス水を用いて洗浄を行うことにより、多量の気泡が超音波出力を緩和しパターンダメージを防止し、洗浄能力においてはマイクロバブル効果ならびにリフトオフ効果が促進され高い異物除去効果を有する超音波洗浄を行うことができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも1種類のガスを飽和濃度以上に溶存せしめた洗浄水に超音波振動を付与して基板を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/304 642E
, H01L21/304 647Z
