特許
J-GLOBAL ID：200903085154682253
光触媒併用放電ガス処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川崎 勝弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-303431
公開番号（公開出願番号）：特開平10-113538
出願日： 1996年10月10日
公開日（公表日）： 1998年05月06日
要約：
【要約】【課題】光触媒の有効利用が図れ、かつ、メンテナンス性の良い光触媒併用放電ガス処理装置を提供すること【解決手段】内部中心部に軸方向に伸びる放電電極17を配置した同軸円筒型の放電プラズマ容器13の被処理ガスを導入する側に光触媒の微粒子16を供給する光触媒供給装置14を設け、被処理ガスに光触媒の微粒子16を注入して放電プラズマ容器13内に送り、該容器13内で放電プラズマの放電化学反応と発光により活性化した光触媒16によって有害物質が処理され、処理後、放電プラズマ容器13の排出側の光触媒回収装置15により光触媒16を回収し、循環装置21により光触媒供給装置14に戻す。光触媒が微粒子使用であるので、光触媒の単位重量あたりの表面積が大きく光の利用効率が高く、また、放電プラズマ反応容器13を分解することなく光触媒を交換することができる。
請求項（抜粋）：
光触媒の微粒子を供給する光触媒供給装置と、被処理ガスを通流する放電プラズマ容器と、光触媒の微粒子を回収する光触媒回収装置とを備え、放電プラズマ容器内を通流する被処理ガスに光触媒の微粒子を注入してなることを特徴とする光触媒併用放電ガス処理装置。
IPC (7件)：
B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/32 ZAB
, B01D 53/50
, B01D 53/56
, B01D 53/74
, B01D 53/60
, B01J 35/02
B01D 53/36 ZAB J
, B01D 53/32 ZAB
, B01J 35/02 J
, B01D 53/34 122 Z
, B01D 53/34 129 C
, B01D 53/34 132 A
