特許
J-GLOBAL ID:200903085157161483

マイクロ触媒反応器の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-047940
公開番号(公開出願番号):特開2003-245562
出願日: 2002年02月25日
公開日(公表日): 2003年09月02日
要約:
【要約】【課題】 触媒層を常温で形成することができ、触媒層の厚さを簡単に制御することができ、微小空間の所望の場所に触媒層を低コストで形成することができるとともに、良好な基板と触媒層との密着性も提供できるマイクロ触媒反応器の製造方法を得る。【解決手段】 表面に複数の溝部12を設けた平板状の基板11と、前記溝部12の内側に形成した触媒層13とを有し、被処理ガスを前記触媒層13と接触させるようにしたマイクロ触媒反応器の製造方法において、前記触媒層13が、触媒微粉末をキャリアガスとともに微小孔ノズルの先端から前記溝部の内側に吹き付けることにより形成されることを特徴とする製造方法。
請求項(抜粋):
表面に複数の溝部を設けた平板状の基板と、前記溝部の内側に形成した触媒層とを有し、被処理ガスを前記触媒層と接触させるようにしたマイクロ触媒反応器の製造方法において、前記触媒層が、触媒微粉末をキャリアガスとともに微小孔ノズルの先端から前記溝部の内側に吹き付けることにより形成されることを特徴とするマイクロ触媒反応器の製造方法。
IPC (4件):
B01J 37/02 301 ,  B01J 19/24 ,  B01J 35/02 ,  B01J 35/02 311
FI (4件):
B01J 37/02 301 M ,  B01J 19/24 A ,  B01J 35/02 P ,  B01J 35/02 311 B
Fターム (26件):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA05B ,  4G069BC40B ,  4G069BC70B ,  4G069DA06 ,  4G069EA06 ,  4G069EA11 ,  4G069EB03 ,  4G069EE07 ,  4G069FA03 ,  4G069FB24 ,  4G069FB80 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075BB10 ,  4G075BD14 ,  4G075CA02 ,  4G075CA54 ,  4G075DA02 ,  4G075EB15 ,  4G075EE23 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12
引用特許:
審査官引用 (8件)
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