特許
J-GLOBAL ID：200903085198364402
X線マスク検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-140981
公開番号（公開出願番号）：特開平6-349715
出願日： 1993年06月11日
公開日（公表日）： 1994年12月22日
要約：
【要約】【目的】 反射型X線マスクのパターンの欠陥を容易に検査することができるX線マスク検査装置を提供する。【構成】 放射光20をトロイダルミラー22で成形して短波長のX線を除去し、ベリリウムフィルター24で紫外から可視にかけての長波長成分を除去する。取り出された軟X線によりステージ30に取り付けた反射型X線マスク10を照射し、反射したX線をウォルターミラー40に導いてMCP50上にマスクの像を拡大結像させる。ステージ30をxy方向へ移動させて反射型X線マスク10の全面の像をMCP50で取り込み、取り込んだ画像を本来のマスクのパターンデータと対比する。
請求項（抜粋）：
反射型X線マスクの欠陥を検査するX線マスク検査装置であって、前記反射型X線マスクに対してX線を照射する照射手段と、前記反射型X線マスクを前記照射手段から照射されるX線と交差する方向へ相対移動させる走査手段と、前記反射型X線マスク上で反射したX線を結像させるX線光学系と、前記X線光学系により結像されたX線像を検出する検出手段と、を備えることを特徴とするX線マスク検査装置。
IPC (2件)：
引用特許：
出願人引用 (5件)
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光学系評価装置及び光学系評価方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-251142
出願人：日本電信電話株式会社
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特開平4-129210
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特開昭62-161044
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審査官引用 (2件)
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