特許
J-GLOBAL ID：200903085216458703
原版データ生成プログラム、原版データ生成方法、照明条件決定プログラム、照明条件決定方法およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：
大塚 康徳
, 高柳 司郎
, 大塚 康弘
, 木村 秀二
, 下山 治
, 永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-102559
公開番号（公開出願番号）：特開2009-251518
出願日： 2008年04月10日
公開日（公表日）： 2009年10月29日
要約：
【課題】より高い結像性能を得ることができる原版パターンをより少ない負荷で計算する。【解決手段】原版データ生成プログラムは、投影光学系を介して原版パターンを基板に投影することによって該基板に目標パターンの潜像を形成する露光装置で使用される前記原版パターンのデータを生成する。該プログラムは、前記原版パターンを構成する主パターンと前記主パターンに付随して設けられるべき補助パターンのうち該補助パターンのみが前記投影光学系の物体面に配置されたときに前記投影光学系によって形成される光強度分布に基づいて最終的な補助パターンを決定する決定ステップと、前記最終的な補助パターンと前記主パターンとを結合して前記原版パターンのデータを生成する結合ステップとを含み、前記決定ステップでは、前記光強度分布の計算及び評価の処理と、前記投影光学系の物体面に配置すべき補助パターンの変更の処理とを繰り返すことによって前記最終的な補助パターンを決定する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
投影光学系を介して原版パターンを基板に投影することによって該基板に目標パターンの潜像を形成する露光装置で使用される前記原版パターンのデータを生成する原版データ生成プログラムであって、
前記原版パターンを構成する主パターンと前記主パターンに付随して設けられるべき補助パターンのうち該補助パターンのみが前記投影光学系の物体面に配置されたときに前記投影光学系によって形成される光強度分布に基づいて最終的な補助パターンを決定する決定ステップと、
前記最終的な補助パターンと前記主パターンとを結合して前記原版パターンのデータを生成する結合ステップとを含み、
前記決定ステップでは、前記光強度分布の計算及び評価の処理と、前記投影光学系の物体面に配置すべき補助パターンの変更の処理とを繰り返すことによって前記最終的な補助パターンを決定する、
ことを特徴とする原版データ生成プログラム。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, H01L 21/027
, G03F 7/20
G03F1/08 D
, H01L21/30 502G
, H01L21/30 514C
, H01L21/30 516D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516Z
, G03F1/08 Z
2H095BA01
, 2H095BA02
, 2H095BB02
, 5F046BA03
, 5F046DA02
