特許
J-GLOBAL ID：200903075470316450
コンタクト・ホール・マスクの光学的近接補正設計の方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-007029
公開番号（公開出願番号）：特開2004-221594
出願日： 2004年01月14日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：
【課題】基板表面に形成すべきパターンの照度分布を最適化する方法を提供すること。【解決手段】照明装置に対応して照明ひとみおよび投影ひとみに従って決定される透過交差係数(「TCC」)関数を定義し、基板に印刷すべきマスクの少なくとも1つの解像可能な特徴を少なくとも1つのインパルス関数で表し、さらに少なくとも1つのインパルス関数およびTCC関数に基づいて所定の次数の干渉マップを作ることで、照度を最適化する。ここで、この干渉マップは、基板に印刷すべき少なくとも1つの解像可能な特徴および弱め合う干渉領域を表す。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
基板表面に形成されるパターンの照度分布を最適化する方法であって、
照明装置に対応して照明ひとみおよび投影ひとみに従って決定される透過交差係数(transmission cross coefficient)(「TCC」)関数を定める段階と、
前記基板に印刷すべきマスクの少なくとも1つの解像可能な特徴を少なくとも1つのインパルス関数で表す段階と、
前記少なくとも1つのインパルス関数および前記TCC関数に基づいて、所定の次数の干渉マップを作る段階とを備え、前記干渉マップが、前記基板に印刷すべき前記少なくとも1つの解像可能な特徴および弱め合う干渉の領域を表す、照度分布を最適化する方法。
IPC (4件)：
H01L21/027
, G02B21/14
, G02B21/16
, G03F7/20
H01L21/30 516D
, G02B21/14
, G02B21/16
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516Z
2H052AC10
, 2H052AC12
, 2H052AC34
, 5F046BA03
, 5F046CB05
, 5F046CB24
, 5F046DA02
, 5F046DD06
