特許
J-GLOBAL ID:200903085228256740

エッチングまたは析出のためのプラズマ利用装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-036196
公開番号(公開出願番号):特開平10-321596
出願日: 1998年02月18日
公開日(公表日): 1998年12月04日
要約:
【要約】【課題】 プラズマを利用した簡単かつ低コストで、特に長い使用寿命のエッチング装置および析出装置を提供する。【解決手段】 プラズマを利用してエッチング又は析出を行う既知の装置は、処理すべき基板を収納するための反応室(1)と、該反応室(1)へガスを供給するための石英ガラスのガス注入ノズル(2)と、該ガス注入ノズル(2)内でプラズマ(5)を発生させるためのプラズマ発生装置とを備えている。このプラズマ利用装置において、本発明は、前記ガス注入ノズル(2)の内壁と発生する前記プラズマ(5)との間に保護部材(6)を配設することを提案している。このプラズマ利用装置に適用する適当な管状の保護部材(6)は、内側表面を熱処理で滑らかにした合成石英ガラスから成る。
請求項(抜粋):
処理すべき基板を収納するための反応室(1)と、該反応室(1)へガスを供給するための石英ガラスのガス注入ノズル(2)と、該ガス注入ノズル(2)内でプラズマ(5)を発生させるためのプラズマ発生装置とを備えたプラズマ利用装置において、前記ガス注入ノズル(2)の内壁と発生すべき前記プラズマ(5)との間に保護部材(6)を設けることを特徴とするプラズマ利用装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開昭63-053930
  • 反応炉
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-268349   出願人:ソニー株式会社
  • 特開昭63-053930
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