特許
J-GLOBAL ID:200903085265056645

抗菌剤でコートされたヒドロゲル形成吸収ポリマー

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-536160
公開番号(公開出願番号):特表平11-501362
出願日: 1996年11月14日
公開日(公表日): 1999年02月02日
要約:
【要約】本発明はヒドロゲル形成吸収ポリマーと抗菌剤を含んでなり、ヒドロゲル形成吸収ポリマーが抗菌剤でコートされている、抗菌性ヒドロゲル形成吸収ポリマーに関する。本発明はこのような抗菌性ヒドロゲル形成吸収ポリマーの製造方法にも更に関する。本発明は抗菌性ヒドロゲル形成吸収ポリマーを含んでなる使い捨て吸収体にも更に関する。
請求項(抜粋):
a)ヒドロゲル形成吸収ポリマー、および b)抗菌剤を含んでなり、ヒドロゲル形成吸収ポリマーが抗菌剤でコートされている、抗菌性ヒドロゲル形成吸収ポリマー。
IPC (4件):
C08L101/14 ,  A61F 13/15 ,  A61F 13/46 ,  C08J 3/20
FI (4件):
C08L101/14 ,  C08J 3/20 ,  A61F 13/18 307 B ,  A41B 13/02 D
引用特許:
審査官引用 (4件)
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