特許
J-GLOBAL ID：200903085288393630
試料分析装置における定量分析方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
最上 健治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-384593
公開番号（公開出願番号）：特開2002-181745
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：
【要約】【課題】 Na ,K等の経時変化の大きい元素が存在している試料においても、定性分析で得られるスペクトル強度に基づく簡易的な定量分析の精度を向上させることの可能な試料分析装置における定量分析方法を提供する。【解決手段】 第1の定性分析により試料の構成元素の判定を行うステップと、該定性分析でNa ,K等の経時変化の大きい元素が存在すると判明した場合、試料に対する電子線照射位置をずらして、経時変化の大きい元素順に第2の定性分析を行うステップと、第2の定性分析の結果得られるエネルギースペクトル強度に基づいて定量分析を行うステップとで、簡易的な定量分析を行う。
請求項（抜粋）：
試料に電子線を照射する電子線源と、電子線の照射された試料から放出される特性X線を検出するX線分光器と、各部の動作を制御する制御部とを有し、試料に電子線を照射し、該試料表面より放出される特性X線を検出して試料の定量分析を行う試料分析装置における定量分析方法において、第1の定性分析により試料表面の元素の判定を行うステップと、前記第1の定性分析の結果、Na ,K等の電子線の照射ダメージに敏感な元素が存在しないと判明した場合は、前記第1の定性分析の結果得られるエネルギースペクトル強度に基づいて定量分析を実行するステップと、前記第1の定性分析の結果、Na ,K等の電子線の照射ダメージに敏感な元素が存在すると判明した場合は、試料に対する電子線照射分析位置を電子線のビーム径の数倍以上離れた位置にずらして、第1のシーケンスでNa ,K等の電子線の照射ダメージに敏感な元素の定性分析を自動的に行い、次いで第2のシーケンス以降でその他の元素の定性分析を自動的に行う第2の定性分析ステップと、前記第2の定性分析の結果得られるエネルギースペクトル強度に基づいて定量分析を行うステップとを備えていることを特徴とする試料分析装置における定量分析方法。
Fターム (18件)：
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001EA00
, 2G001EA01
, 2G001FA16
, 2G001GA01
, 2G001HA01
, 2G001JA03
, 2G001JA11
, 2G001KA01
, 2G001LA02
, 2G001NA03
, 2G001NA05
, 2G001NA09
, 2G001NA17
