特許
J-GLOBAL ID:200903085291952454

レーザー光のコントラスト向上法及びレーザー発生装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-042974
公開番号(公開出願番号):特開2006-229079
出願日: 2005年02月18日
公開日(公表日): 2006年08月31日
要約:
【課題】 レーザー光のコントラストを小型の装置構成で、簡便にかつ安価に向上させる方法及びレーザー発生装置を提供する。【解決手段】 レーザー発振器11のパルス光出力を、パルス幅拡張器12、前段部増幅器13、減衰器14を経て、光パラメトリック増幅器15に導入し、その後光パラメトリック増幅器15の出力を後段部増幅器16、パルス幅圧縮器17を経て取り出す。【選択図】 図3
請求項(抜粋):
レーザー増幅器から出力されるレーザー光を減光し、光パラメトリック増幅器で増幅することにより、レーザー光の時間波形に存在するプリパルスとメインパルスの強度比(コントラスト)を増大させたレーザー光を得ることを特徴とするレーザー光のコントラスト向上法。
IPC (3件):
H01S 3/10 ,  H01S 3/108 ,  H01S 3/23
FI (3件):
H01S3/10 Z ,  H01S3/108 ,  H01S3/23
Fターム (7件):
5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172DD03 ,  5F172NN14 ,  5F172NN16 ,  5F172NR24 ,  5F172NR30
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
審査官引用 (3件)

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