特許
J-GLOBAL ID：200903085397683789

被処理体の載置装置

発明者：
永岩 利文

永岩 利文 について

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関沢 秀栄

関沢 秀栄 について

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今福 光祐

今福 光祐 について

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大藪 淳

大藪 淳 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 小原 肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-323208
公開番号（公開出願番号）：特開2002-016126
出願日： 2000年10月23日
公開日（公表日）： 2002年01月18日
要約：
【要約】【課題】 フォーカスリング2とウエハチャック1間に真空細隙があり、両者間での熱伝達が悪く、フォーカスリング2をウエハWのようには冷却することができず、フォーカスリング2がウエハWの温度よりもかなり高くなり、この温度の影響によりウエハWの外周縁部のエッチング特性が悪くなる。【解決手段】 本発明の被処理体の載置装置は、ウエハWを載置する冷媒流路11Cを内蔵したウエハチャック11と、このウエハチャック11の載置面の外周縁部に配置されたフォーカスリング12とを備え、ウエハチャック11とフォーカスリング12との間に熱伝達媒体15を介在させると共にフォーカスリング12をウエハチャック11に対して押圧、固定する固定手段16を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
被処理体を載置する冷却機構を内蔵した載置台と、この載置台の載置面の外周縁部に配置されたフォーカスリングとを備えた被処理体の載置装置において、上記載置台と上記フォーカスリングとの間に熱伝達媒体を介在させたことを特徴とする被処理体の載置装置。
IPC (3件)：
H01L 21/68 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065
FI (3件)：
H01L 21/68 N ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/302 B
Fターム (31件)：
4K057DA11 ,  4K057DA13 ,  4K057DD01 ,  4K057DE06 ,  4K057DE14 ,  4K057DE20 ,  4K057DM18 ,  4K057DM28 ,  4K057DM35 ,  4K057DM39 ,  4K057DM40 ,  4K057DN01 ,  5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB11 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F004BB26 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA26 ,  5F031HA25 ,  5F031HA30 ,  5F031HA38 ,  5F031HA39 ,  5F031MA23 ,  5F031MA28 ,  5F031MA32 ,  5F031PA18
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (4件)
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