パタ-ンデ-タ作成装置およびパタ-ンデ-タ作成方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-005697
公開番号（公開出願番号）：特開2000-206669
出願日： 1999年01月12日
公開日（公表日）： 2000年07月28日
要約：

【要約】【課題】パターンデータ作成の提出期限、処理時間および優先度を勘案して効率的に処理を行うことができるパターンデータ作成方法の実現を課題とする。【解決手段】パターンデータ作成作業を順次登録する作業登録工程と、この作業登録工程で登録された複数のパターンデータ作成作業のスケジュールを調整して作業順序を設定するスケジュール工程S13と、スケジュールにしたがって作業順序を登録する作業順序登録工程S14と、作業順序にしたがってデータ処理を行うデータ処理工程S15とを設ける。

請求項（抜粋）：

半導体装置のチップのレイアウトデータを基にして、露光用のマスクデータなどのパターンデータを作成するパターンデータ作成装置において、パターンデータ作成作業を順次登録する作業登録手段と、この作業登録手段に登録された複数のパターンデータ作成作業のスケジュールを調整して作業順序を設定するスケジュール手段とを具備することを特徴とするパターンデータ作成装置。

IPC (3件)：

G03F 1/08 , G06F 17/50 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A , G06F 15/60 652 K , G06F 15/60 658 M , H01L 21/30 502 P

Fターム (4件)：

2H095BB01 , 5B046AA08 , 5B046BA04 , 5B046CA08

引用特許：

審査官引用 (4件)

インパクト回転工具
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-086802 出願人：松下電工株式会社
特開平3-136710
回転衝撃工具
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-355148 出願人：株式会社マキタ

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