特許
J-GLOBAL ID：200903085493302575
マスク並びにこれを用いる荷電粒子ビーム露光方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-222233
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088160
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 マスク並びにこれを用いる荷電粒子ビーム露光方法及び装置に係り、露光中に選択可能なブロックパターン数の制限をなくし、ブロックマスクを連続的に移動させながら露光を行うことにより、露光速度の低下及び露光時間の増加を防止して荷電粒子ビーム露光装置のスループットを向上する。【構成】 荷電粒子ビーム露光方法は、各々繰り返しパターンを含み、露光順序に応じた順序で配置された複数のブロックマスクパターン1,2,3,4を有するブロックマスクを用いて被露光部材に対してブロック露光を行うに際し、ブロックマスクを連続的に移動させながら偏向データに基づいて荷電粒子ビームを偏向して複数のブロックマスクパターンのうち所望のパターンを被露光部材上に露光するステップを含む。
請求項（抜粋）：
ブロック露光を用いる荷電粒子ビーム露光用のブロックマスクであって、各々繰り返しパターンを含み、露光順序に応じた順序で配置された複数のブロックマスクパターンを有し、所定方向に沿って配置された任意の複数のブロックマスクパターンからなる第1のブロックマスクパターン群と、該所定方向とは反対方向に沿って該第1のブロックマスクパターン群の隣に配置された該任意の複数のブロックマスクパターンからなる第2のブロックマスクパターン群とを備えたブロックマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 541 S
, H01L 21/30 541 V
, H01L 21/30 541 U
