レーザ蒸着法による薄膜の作製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：越場隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-248501
公開番号（公開出願番号）：特開平8-085865
出願日： 1994年09月16日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】【目的】膜厚および超電導特性の分布が少ない大面積の高品質の酸化物超電導薄膜をレーザ蒸着法で成膜する。【構成】内部の圧力および雰囲気が調整可能な気密チャンバ40内でターゲット5にレーザ光10を走査しながら照射して、ターゲット5の被照射面に垂直に配置した基板6を回転させながら成膜面上に酸化物超電導薄膜を成長させる。

請求項（抜粋）：

内部の圧力および雰囲気が調整可能な気密チャンバ内でターゲットにレーザ光を照射して、ターゲットの被照射面に垂直に配置した基板の成膜面上に薄膜を成長させる方法であって、基板を回転させ、且つレーザ光をターゲット上で走査して成膜を行うことを特徴とするレーザ蒸着法による薄膜の作製方法。

IPC (5件)：

C23C 14/28 , C01G 1/00 ZAA , C01G 3/00 ZAA , H01L 39/24 ZAA , C30B 29/22 501

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-255669
特開平2-104658
エネルギービームによる蒸着方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-295111 出願人：住友金属工業株式会社

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