特許
J-GLOBAL ID：200903085611082240
成膜用マスク、自発光パネルの製造方法、および自発光パネル
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人 エビス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-228105
公開番号（公開出願番号）：特開2007-039777
出願日： 2005年08月05日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：
【課題】 簡単に成膜用マスクの変形を防止することができる成膜用マスクを提供すること、高精度に成膜パターンを形成することができる自発光パネルの製造方法を提供すること、高精度な成膜パターンが形成された自発光パネルを提供すること。【解決手段】 成膜用マスク1は、被成膜対象の成膜領域に対応して形成された開口パターン2を有し、この開口パターン2が、当該成膜用マスクの変形を防止する補強部5を有する。詳細には開口部3に、開口部の内側に向けて補強部5として凸部5bを設けることにより、マスクの剛性(強度)が高くなり、成膜時のマスクの変形を低減することができ、高精度に成膜パターンを形成することができる。また、高い表示性能の自発光パネルを提供することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
開口パターンを有する成膜用マスクであって、
前記開口パターンが当該成膜用マスクの変形を防止する補強部を有することを特徴とする成膜用マスク。
IPC (4件)：
C23C 14/04
, H05B 33/10
, H01L 51/50
, C23C 14/24
C23C14/04 A
, H05B33/10
, H05B33/14 A
, C23C14/24 G
3K007AB11
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB02
, 4K029BB03
, 4K029CA01
, 4K029DB06
, 4K029DB14
, 4K029HA02
, 4K029HA03
