特許

J-GLOBAL ID：200903085619448260

色変換フィルタ基板および色変換カラー有機EL素子の製造方法

発明者： 巻渕 陽一 ,  川口 剛司
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-112529
公開番号（公開出願番号）：特開2003-308975
出願日： 2002年04月15日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、膜厚を薄く抑え、且つ、十分な表面平滑性を備えたオーバーコート層を有する、長期にわたって安定した発光特性を維持できる色変換方式のカラー有機EL素子を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のカラー有機EL素子の製造方法は、色変換フィルタ層を透明な支持基板上に形成する工程と、色変換フィルタ層および透明な支持基板上にオーバーコート層を形成する工程とを少なくとも具備し、該オーバーコート層を形成する工程が、仮基板上に配置された、表面が十分に平坦な剥離層上にオーバーコート層を形成し、この仮基板を剥離層およびオーバーコート層とともに該透明な支持基板上の色変換フィルタ層上に圧着し、この圧着の段階で200°C以下の温度でオーバーコート層を硬化させた後、剥離層を除去することで色変換フィルタ層上にオーバーコート層を転写する工程であることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明な支持基板と、単一または複数種類の色変換フィルタ層と、該色変換フィルタ層を被覆し、ガスバリア性を有し、且つ表面が平滑化された単層または異種の材料で構成される複数の層からなる透明なオーバーコート層を少なくとも備える色変換フィルタ基板の製造方法において、該製造方法が、色変換フィルタ層を透明な支持基板上に形成する工程と、色変換フィルタ層および透明な支持基板上にオーバーコート層を形成する工程とを少なくとも具備し、該オーバーコート層を形成する工程が、仮基板上に配置された、表面が十分に平坦な剥離層上にオーバーコート層を形成し、この仮基板を剥離層およびオーバーコート層とともに該透明な支持基板上の色変換フィルタ層上に圧着し、この圧着の段階で200°C以下の温度でオーバーコート層を硬化させた後、剥離層を除去することで色変換フィルタ層上にオーバーコート層を転写する工程であることを特徴とする色変換フィルタ基板の製造方法。

IPC (3件)：

H05B 33/12 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (3件)：

H05B 33/12 E ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (10件)：

3K007AB04 ,  3K007AB08 ,  3K007AB11 ,  3K007AB12 ,  3K007AB13 ,  3K007BB06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  3K007FA02 ,  3K007FA03

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 有機ELディスプレイおよび製造方法、並びにそれに用いる色変換部転写体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-043488   出願人：大日本印刷株式会社
• 有機ELカラーディスプレイ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-112716   出願人：ティーディーケイ株式会社
• 多色発光有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-222701   出願人：富士電機株式会社
• カラーフィルタ及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-090829   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 透光性の保護膜転写フィルム、光学素子の製造方法およびカラーフィルターの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-083044   出願人：日立化成工業株式会社