特許
J-GLOBAL ID:200903085691139752

薄膜構造体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 伊藤 俊哉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-332696
公開番号(公開出願番号):特開2005-181990
出願日: 2004年11月17日
公開日(公表日): 2005年07月07日
要約:
【課題】 フォトリソグラフィー等を用いずに成膜技術のみにより、基体表面に配向した板状体が形成された薄膜構造体を形成し、これにより低コストで耐熱性に優れ、液晶プロジェクタ等に用いるのに十分な特性を備えた偏光子を提供する。 【解決手段】 本発明の薄膜構造体は、表面に直線状凹凸構造を有する透明基体32上に形成された板状金属42と板状誘電体52が接した板状構造体50である。その板状構造体における板状金属42の平均間隔(d)、膜厚(H)、平均幅(W)、および基体に対する傾斜角を可視光波長領域において十分な偏光性能が得られるように設定する。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
平行な複数の直線状凹凸構造を設けた基体に、基体表面と一定の角度をもち互いに平行な複数の板状金属が形成され、該板状金属の端部が前記直線状凹凸構造の方向に沿って基体に接している薄膜構造体において、前記板状金属の平均間隔(d)、膜厚(H)、平均幅(W)、基体に対する傾斜角(θ)が、使用波長がλのとき、それぞれ以下の範囲にあることを特徴とする薄膜構造体。 0.07λ<d<0.20λ 0.15λ<H<0.90λ 0.05λ<W<0.18λ 0°≦θ≦25°
IPC (2件):
G02B5/30 ,  C23C14/34
FI (2件):
G02B5/30 ,  C23C14/34 S
Fターム (12件):
2H049BA02 ,  2H049BA16 ,  2H049BA45 ,  2H049BC01 ,  2H049BC02 ,  2H049BC22 ,  4K029AA29 ,  4K029BA46 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA15 ,  4K029DC39
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 染料系偏光膜
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2001-097758   出願人:日本化薬株式会社, 株式会社ポラテクノ
  • 米国特許第6108131号明細書
  • 米国特許第6122103号明細書
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