特許
J-GLOBAL ID：200903085691671772
パターン検査装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-032777
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243823
出願日： 1994年03月03日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 フォーカス系のドリフトを補正することによって、正確な焦点位置を常に得るようにしたパターン検査装置を提供することにある。【構成】 試料に同じ設計パターンに基づいて描かれた複数のパターンをそれぞれ別の検出手段で観察し、その両者のパターンの違いを検査手段によって比較検査する方式、あるいは試料に描かれたパターンを検出手段で観察し、これとパターンの設計データとを検査手段によって比較検査する方式のパターン検査装置において、試料2を搭載し所定方向に移動可能なテーブル1上に焦点位置検出用の基準パターン12を設け、この基準パターン12に光源3から光を照射して得られた透過光あるいは反射光を光学系4を通してセンサ5で受光し、この受光結果出力に基づいて光学系4の焦点位置を測定して該焦点位置を補正可能に構成したことを特徴とするパターン検査装置である。
請求項（抜粋）：
パターンが形成された試料に光を照射する照射手段と、前記試料に照射された光の透過光あるいは反射光を光学系を通して受光し前記パターンの像に応じた測定データを出力する受光手段とを備え、前記パターンに対応する設計データを入力し該設計データに基づいて2値あるいは多値の設計パターンイメージデータを作り出し、この設計パターンイメージデータと前記測定データとを比較することによりパターンの検査を行うか、あるいは前記試料内に同一設計データに基づいて描かれた複数の前記パターンの像に応じた測定データ同士をそれぞれ比較することによりパターンの検査を行うように構成したパターン検査装置において、前記試料を搭載し所定方向に移動可能なテーブル上に焦点位置検出用の基準パターンを設け、この基準パターンに光を照射して得られた透過光あるいは反射光を前記光学系を通して前記受光手段で受光し、この受光結果出力に基づいて前記光学系の焦点位置を測定して該焦点位置を補正可能に構成したことを特徴とするパターン検査装置。
IPC (3件)：
G01B 11/24
, G06T 7/00
, H01L 21/66
G06F 15/62 405 A
, G06F 15/70 465
