特許
J-GLOBAL ID:200903085698574080

位置検出装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大森 聡
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-193049
公開番号(公開出願番号):特開平10-038514
出願日: 1996年07月23日
公開日(公表日): 1998年02月13日
要約:
【要約】【課題】 凹凸の段差量の極めて小さい位置検出マーク、又は凹凸の段差量が小さく且つ計測方向に非対称となった位置検出マークを使用する場合であっても高精度にその位置を検出する。【解決手段】 例えばシート状のレーザビームに対して検出対象のウエハマークを計測方向に走査し、そのウエハマークから発生する回折光を光電変換することにより、そのウエハマークのX座標の関数としてのマーク検出信号f(X)を得る。予め別のウエハマークについて検出されたマーク検出信号の変化(エッジ)を強調して基準信号g(X)を求めておき、基準信号g(X)とマーク検出信号f(X)との相互相関関数h(X)を求め、この相互相関関数h(X)の値が最大値を取るときのX座標X1をマーク位置とする。
請求項(抜粋):
処理対象の基板上の位置検出マークに照明光を照射し、前記位置検出マークからの戻り光を受光して、該戻り光の強度に対応する検出信号を出力する検出光学系を備え、該検出光学系から出力される検出信号に基づいて前記位置検出マークの位置を検出する位置検出装置において、前記検出信号に比べて変化が強調された所定の基準信号を記憶する記憶手段と、前記検出信号と前記記憶手段から読み出された前記基準信号とを相対的に横ずれさせながら相関関数を算出し、該相関関数が所定の値を取るときの前記2つの信号の相対的な横ずれ量を求める信号処理手段と、を設け、該信号処理手段によって求められた前記相対的な横ずれ量に基づいて前記位置検出マークの位置を検出することを特徴とする位置検出装置。
IPC (4件):
G01B 11/00 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/027
FI (6件):
G01B 11/00 C ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 H ,  H01L 21/30 525 Q ,  H01L 21/30 525 W
引用特許:
審査官引用 (4件)
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