特許
J-GLOBAL ID:200903085753313037

気相成長装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-187552
公開番号(公開出願番号):特開平8-053766
出願日: 1994年08月09日
公開日(公表日): 1996年02月27日
要約:
【要約】【目的】ウエハの温度をより正確に測定してウエハの温度をより正確に制御可能な気相成長装置を提供する。【構成】この装置では、ウエハ9は赤外放射線源10からの放射線とウエハホルダ21からの熱の供給により加熱される。反射板20は、ウエハ9の表面から放散される放射線をウエハ9に戻す。放射温度計17a、17b、17cはウエハホルダ21の裏面に向けられており、赤外放射線源10からの放射線の影響を受けず、ウエハ9の温度をより正確に測定してウエハ9の温度を的確に制御することができる。
請求項(抜粋):
赤外放射線源を熱源としてウエハを加熱し、このウエハに膜付けを行なう気相成長装置において、反応炉内に配置されウエハの裏面側を被うように支持するカーボン製のウエハホルダと、前記反応炉を構成する石英ガラス窓を介してウエハホルダのウエハ載置側またはそれと反対の裏側のいずれか一方のみに向けて反応炉外に配置された赤外放射線源と、同じく前記反応炉を構成する石英ガラス窓を介すると共にウエハホルダを間に置いて前記赤外放射線源と対向するようにウエハホルダの裏側またはウエハ載置側のいずれか一方に向けて反応炉外に配置された反射板と、この反射板が対向するウエハホルダの裏側またはウエハ表面に向けて設けられた放射温度計と、この放射温度計の出力により前記赤外放射線源の出力により前記赤外放射線源の出力を制御する温度制御部と、を備えたことを特徴とする気相成長装置。
IPC (6件):
C23C 16/46 ,  C23C 16/52 ,  G01J 5/02 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/26 ,  H01L 21/31
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-000713
  • 特開昭62-015816
  • 光照射加熱装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-284034   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
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