特許
J-GLOBAL ID:200903085774270443
微細パターン形成用原版およびその製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
米田 潤三 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-187805
公開番号(公開出願番号):特開平8-029964
出願日: 1994年07月18日
公開日(公表日): 1996年02月02日
要約:
【要約】【目的】 線幅が微細であるとともに、膜厚も適度な微細パターンを高い精度で効率よく形成することがでる高耐久性の微細パターン形成用原版とその製造方法を提供する。【構成】 少なくとも表面が導電性の基板に凹部を所定パターンで形成し、この凹部に絶縁性物質を設けて電気絶縁性のマスキング層を形成して微細パターン形成用原版とする。
請求項(抜粋):
少なくとも表面が導電性の基板と、該基板の表面に所定パターンで形成された凹部に設けた絶縁性物質からなるマスキング層とを備えることを特徴とする微細パターン形成用原版。
IPC (3件):
G03F 1/08
, B41F 17/14
, H05K 3/20
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開平4-234192
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微細パターン形成用の原版
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-322106
出願人:大日本印刷株式会社
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特開昭58-073186
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