特許
J-GLOBAL ID:200903085804262106

オーミック電極及びその形成方法並びに発光素子

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 杉浦 正知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-032741
公開番号(公開出願番号):特開平6-188524
出願日: 1993年01月28日
公開日(公表日): 1994年07月08日
要約:
【要約】【目的】 II-VI族化合物半導体に対する、密着性が良好で接触比抵抗が低いオーミック電極を実現する。【構成】 p型ZnTe層2上にPd膜3を最下層とする金属多層膜から成るオーミック電極を真空蒸着法などにより形成する。オーミック電極形成後に必要に応じて100〜300°Cの温度でアニールを行う。このようにして形成されるオーミック電極をII-VI族化合物半導体を用いる半導体レーザーや発光ダイオードのp側のオーミック電極として用いる。
請求項(抜粋):
p型のII-VI族化合物半導体に対するオーミック電極において、上記p型のII-VI族化合物半導体に接した最下層の部分がPdまたはPd合金から成ることを特徴とするオーミック電極。
IPC (2件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 半導体レーザー
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-229356   出願人:ソニー株式会社
  • 特開平4-063479

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