特許
J-GLOBAL ID：200903085865561335

(メタ)アクリル酸エステル、重合体、レジスト組成物、およびパターンが形成された基板の製造方法

発明者：
中村 雅

中村 雅 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-231384
公開番号（公開出願番号）：特開2007-045924
出願日： 2005年08月09日
公開日（公表日）： 2007年02月22日
要約：
【課題】 ディフェクトの生成が抑制され、レジストパターンのラインエッジラフネスを小さくすることができるレジスト組成物を提供する。このようなレジスト組成物に好適な重合体であって熱安定性の良好な重合体を提供する。このような重合体に好適な多官能(メタ)アクリル酸エステルを提供する。【解決手段】 (メタ)アクリル酸2-(2-ビニロキシエトキシ)エチルのビニル基にメタクリル酸のカルボン酸を付加する等により製造したアセタール構造を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(1)で表されるアセタール構造を有する多官能(メタ)アクリル酸エステル。
IPC (5件)：
C08F 20/28 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C07C 69/003 ,  C07C 69/54
FI (5件)：
C08F20/28 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C07C69/003 C ,  C07C69/54 Z
Fターム (32件)：
2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB21 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025FA17 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB46 ,  4H006KC14 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL65S ,  4J100BA02S ,  4J100BA03R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC53P ,  4J100CA06 ,  4J100FA19 ,  4J100JA37
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (1件)

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