特許
J-GLOBAL ID：200903085955535856
イオン源および質量分析装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-065767
公開番号（公開出願番号）：特開平9-257751
出願日： 1996年03月22日
公開日（公表日）： 1997年10月03日
要約：
【要約】【課題】キャピラリーに電圧が印加されることなく、イオン化効率の高いイオン源を提供する。【解決手段】試料溶液導入部1内の溶液試料は、肉厚が不均一で先端部分の肉厚が薄くなっているキャピラリー2に導入される。キャピラリー2はイオン源6に設置される。ガス供給部4から供給されるガスは、ガス管5によってイオン源6に導入され、キャピラリー2の外周部に沿って流され、オリフィス3から大気中に噴出する。オリフィス3の中心軸に直交する断面積は不均一で、キャピラリー2とオリフィス3の間にガス圧を上げる絞り構造を有する。試料溶液はキャピラリー2先端部で噴出ガスの作用効果によりイオン化され、質量分析計7で分析される。【効果】従来のイオン化法の10倍以上のイオン強度が得られる。
請求項（抜粋）：
導入された試料溶液を大気中に噴霧させるキャピラリーと、前記キャピラリーが挿入されるオリフィスと、前記試料溶液を大気中に噴霧させるガス供給手段と、前記キャピラリーと前記オリフィスの間にガスの圧力を上げる絞り手段を設けたことを特徴とし、前記キャピラリー先端近傍がオリフィスに挿入されて設置されるイオン源であって、前記イオン源に導入されたガスが、前記キャピラリーの外周壁面に沿って先端まで流れ、さらにオリフィスから流出するときに、前記キャピラリーから流出する試料溶液を噴霧して試料をイオン化するイオン源。
IPC (4件)：
G01N 27/62
, H01J 27/02
, H01J 49/04
, H01J 49/42
G01N 27/62 G
, H01J 27/02
, H01J 49/04
, H01J 49/42
