レーザ処理装置及びレーザ処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-011047
公開番号（公開出願番号）：特開平8-197277
出願日： 1995年01月26日
公開日（公表日）： 1996年08月06日
要約：

【要約】【目的】光学窓及び被照射物の両方を物質特性を劣化させることなく浄化できるようにする。【構成】レーザ処理装置は、回路基板6にレーザ光を照射して処理する装置であって、真空チャンバー1と固定用パレット5とレーザ照射部3と光学窓4と高周波電極7とを備えている。真空チャンバー1は、所定の真空度に保持され得る。固定用パレット5は真空チャンバー1内に配置され、回路基板6を保持する。レーザ照射部3は真空チャンバー3外に配置され、固定用パレット5に保持された回路基板6にレーザ光を照射する。光学窓4は、レーザ照射部3から照射されたレーザ光を真空チャンバー1内に導くために、真空チャンバー1の壁面に設けられている。高周波電極7は、光学窓4と固定用パレット5との間でプラズマを発生し、回路基板6と光学窓4とを浄化する。

請求項（抜粋）：

真空中にて被照射物にレーザ光を照射して処理するレーザ処理装置であって、所定の真空度に保持され得る真空室と、前記真空室内に配置され、前記被照射物を保持する保持手段と、前記真空室外に配置され、前記保持手段に保持された被照射物にレーザ光を照射するレーザ照射手段と、前記レーザ照射手段から照射されたレーザ光を前記真空室内に導くために、前記真空室の壁面に設けられた光学窓と、前記光学窓と前記保持手段との間でプラズマを発生するプラズマ電極と、前記プラズマ電極に高周波電圧を印加する高周波電源とを有するプラズマ発生手段と、を備えたレーザ処理装置。

IPC (4件)：

B23K 26/12 , B23K 26/14 , B23K 26/16 , H05H 1/46

引用特許：

審査官引用 (11件)

特開平4-238686
特開平4-238686
特開平4-066290

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