特許

J-GLOBAL ID：200903086004715737

洗浄装置

発明者： 高橋 弘彦 ,  藤田 隆
出願人/特許権者： 株式会社東京精密
代理人 (1件)： 林 孝吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-138437
公開番号（公開出願番号）：特開2008-294233
出願日： 2007年05月24日
公開日（公表日）： 2008年12月04日
要約：

【課題】純水使用量を節減しつつ研磨後のウェハに処理速度を高めた洗浄処理を施し、複数の洗浄処理槽を洗浄処理プロセス等に応じて、より最適な配列に入れ替え並べ替えることを可能とした装置構成の洗浄装置を提供する。【解決手段】それぞれ複数の洗浄処理槽2a〜2d,2e〜2hを備えた洗浄ライン2A,2Bを下層及び上層の2段に構成するとともに、下層及び上層の各洗浄処理槽2a〜2hに対し、被処理ウェハを搬入する機能及び処理されたウェハを搬出する機能を持つ中央搬送手段6と、下層及び上層の各洗浄ライン2A,2Bにおいて隣合う洗浄処理槽へウェハを順次搬送する槽間搬送手段16と、上層の洗浄ライン2Bにおける精密洗浄を行う洗浄処理槽で使用した純水を、下層の洗浄ライン2Aにおける粗洗浄を行う洗浄処理槽に当該粗洗浄用の洗浄水として導入する導入手段とを具備する洗浄装置を提供するものである。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

研磨後のウェハに所要の洗浄処理及び乾燥を行う複数の洗浄処理槽をそれぞれ備えた洗浄ラインを下層及び上層の2段に構成するとともに、前記下層及び上層の洗浄ラインにおける各洗浄処理槽に対し、被処理ウェハを搬入する機能及び処理されたウェハを搬出する機能を持つ中央搬送手段と、前記下層及び上層の各洗浄ラインにおいて隣合う洗浄処理槽へウェハを順次搬送する槽間搬送手段と、前記上層の洗浄ラインにおける後段側の精密洗浄を行う洗浄処理槽で使用した純水を、前記下層の洗浄ラインにおける前段側の粗洗浄を行う洗浄処理槽に当該粗洗浄用の洗浄水として導入する導入手段とを有することを特徴とする洗浄装置。

IPC (1件)：

H01L 21/304

FI (3件)：

H01L21/304 648G ,  H01L21/304 651A ,  H01L21/304 622Q

Fターム (29件)：

5F157AA46 ,  5F157AA70 ,  5F157AA73 ,  5F157AA96 ,  5F157AB45 ,  5F157AB51 ,  5F157AB82 ,  5F157AC53 ,  5F157BA01 ,  5F157BA08 ,  5F157BA12 ,  5F157BB02 ,  5F157BE12 ,  5F157BG62 ,  5F157CB01 ,  5F157CB13 ,  5F157CB28 ,  5F157CE32 ,  5F157CE61 ,  5F157CE76 ,  5F157CF14 ,  5F157CF22 ,  5F157CF32 ,  5F157CF72 ,  5F157CF76 ,  5F157CF80 ,  5F157DA13 ,  5F157DB41 ,  5F157DC83

引用特許：

出願人引用 (2件)

• ポリッシング装置及び基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-112752   出願人：株式会社荏原製作所
• 基板処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-101039   出願人：株式会社カイジョー