高画質パターン作成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-534918
公開番号（公開出願番号）：特表2002-506233
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2002年02月26日
要約：

【要約】本発明は、解像度と画像忠実度を高めるための、加工品にマイクロリソグラフィック・パターンを生成する方法に関する。この方法は、電磁放射を放出する光源を提供する段階と、前記放射により、複数の画素を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、加工品に該変調装置の画像を投射する段階と、さらに、前記加工品の移動と、前記変調装置への信号の供給と、前記放射の輝度を調整することにより、連続した部分的パターンによって作成された部分的画像をつなぎ合わせて前記パターンを作成する段階とから成り、前記パターンの領域が、少なくとも2回露光され、SLMへのデータ供給、焦点、SLMの照射の角度分布、ひとみフィルタリング、偏光といったパラメータのうちの少なくとも1つ、好ましくは少なくとも2つが露光と露光の間で変化するようになっていることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

解像度と画像忠実度を高めるための、放射線に感応する加工品上にマイクロリソグラフィック・パターンを生成する方法であって、超紫外線(EUV)から赤外線(IR)までの波長範囲にある電磁放射線を放射する光源を提供する段階と、前記放射線により、多数の変調素子(画素)を有する空間光変調装置(SLM)を照射する段階と、前記加工品上に前記変調装置の画像を投影する段階と、前記加工品および/または投影システムを互いに対して移動させる段階と、さらに、書き込むパターンのデジタル描写を情報記憶装置から読み取る段階と、前記パターン描写から、連続した部分的パターンを抽出する段階と、前記部分的パターンを変調装置信号に変換して該信号を前記変調装置に供給する段階と、さらに、前記加工品の移動と、前記変調装置への信号の供給と、前記放射線の強度とを調整することにより、連続した部分的パターンによって作成される部分的画像をつなぎ合わせてパターンを作成する段階とを含み、前記パターンの領域が少なくとも2回露光され、該露光は、露光と露光の間で以下のパラメータ、すなわち(イ)SLMに供給されるデータ(ロ)焦点(ハ)SLMにおける照射の角度分布(ニ)ひとみフィルタリング(ホ)偏光のうちの少なくとも1つ、好ましくは少なくとも2つのパラメータが変化していることを特徴とする方法。

IPC (5件)：

G02B 26/08 , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 26/08 E , G03F 7/20 , G03F 7/207 , G03F 1/00 , H01L 21/30 519

Fターム (20件)：

2H041AA16 , 2H041AB14 , 2H041AC06 , 2H041AC08 , 2H041AZ02 , 2H041AZ05 , 2H095BB01 , 2H095BB12 , 2H097CA12 , 2H097CA13 , 2H097CA15 , 2H097GB00 , 2H097LA09 , 2H097LA10 , 2H097LA11 , 2H097LA12 , 2H097LA20 , 5F046AA05 , 5F046BA03 , 5F046GA03

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平3-085543
パターン形成方法、投影露光装置および半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-004942 出願人：株式会社日立製作所
特開平4-273245

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