特許
J-GLOBAL ID：200903086026867611

X線撮像装置

発明者：
米山 明男

米山 明男 について

, 
瀬谷 英一

瀬谷 英一 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-257734
公開番号（公開出願番号）：特開2000-088772
出願日： 1998年09月11日
公開日（公表日）： 2000年03月31日
要約：
【要約】【課題】 試料を設置して測定したX線干渉像のみから試料のX線位相像を求める。【解決手段】 従来のX線撮像装置に、試料を配置しないで生ずるモアレ縞に対応した厚み変化を持つ位相補償素子を光路の一つに設けて、X線干渉計のハーフミラーである単結晶の格子の方位ずれや歪みによって生じたX線干渉計内の第1光路と第2光路の光路差の画面内分布を打ち消す。
請求項（抜粋）：
単結晶からなるハーフミラーを備え、入射するX線の光路を第1光路と第2光路に分割し、再結合して干渉縞を得るX線干渉計を備え、前記光路のいずれかに試料を配置して試料による光路差に対応したX線干渉像を得るX線撮像装置において、前記試料が前記光路に配置されていない状態で生ずる干渉縞に対応した位相補償分布を持った位相補償素子が前記光路のいずれかに設置されたことを特徴とするX線撮像装置。
IPC (2件)：
G01N 23/04 ,  G21K 1/06
FI (2件)：
G01N 23/04 ,  G21K 1/06 Z
Fターム (11件)：
2G001AA01 ,  2G001BA11 ,  2G001CA01 ,  2G001DA09 ,  2G001EA01 ,  2G001EA09 ,  2G001HA12 ,  2G001HA13 ,  2G001JA01 ,  2G001SA29 ,  2G001SA30
引用特許：
審査官引用 (3件)

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