特許
J-GLOBAL ID：200903086058358751
X線マスクの製造方法およびX線マスク
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-070295
公開番号（公開出願番号）：特開平10-270315
出願日： 1997年03月24日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】 X線吸収体のパターニング後にもX線吸収体のパターンが動かないX線マスクの製造方法およびそれにより製造されるX線マスクを提供する。【解決手段】 シリコン基板1の表面上にメンブレン2が形成される。メンブレン2上にX線吸収体4が形成される。シリコン基板1にエッチバックが施され、メンブレン2の一部表面が露出する。このシリコン基板1のバックエッチ前において、メンブレン2とX線吸収体4との応力むらの分布が実質的に同じようにされる。
請求項（抜粋）：
基板の表面上にX線を透過するメンブレンを形成する工程と、前記メンブレン上にX線の透過を遮るX線吸収体を形成する工程と、前記基板の裏面から前記メンブレンの一部表面が露出するように前記基板を選択的に除去する工程とを備え、前記基板の選択的除去の工程前において、前記メンブレンと前記X線吸収体との応力むらの分布傾向が実質的に同じとなるようにされる、X線マスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
