特許
J-GLOBAL ID:200903086067865275

極低膨張透明ガラスセラミックス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 坂本 徹 ,  原田 卓治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-327892
公開番号(公開出願番号):特開2005-089272
出願日: 2003年09月19日
公開日(公表日): 2005年04月07日
要約:
【課題】次世代LSI用リゾグラフィー技術に対応し得る、極低膨張特性と超平滑表面を兼ね備えた極低膨張ガラスセラミックス、それを用いたマスク、光学系反射ミラー、ウエハーステージ、レチクルステージ等の半導体製造装置構成部材、あるいは各種精密品用部材を提供する。【解決手段】0°C〜50°Cの温度範囲において、平均線膨張係数が0.0±0.2×10-7/°C以内ならびにΔL/Lの最大値-最小値が10×10-7以内の範囲であり、SiO2、Al2O3、P2O5を含有し、その合計量が質量百分率で86.0〜89.0%であることを特徴とする。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
0°C〜50°Cの温度範囲において、平均線膨張係数が0.0±0.2×10-7/°C以内ならびにΔL/Lの最大値-最小値が10×10-7以内の範囲であり、SiO2、Al2O3、P2O5を含有し、その合計量が質量百分率で86.0〜89.0%であることを特徴とするガラスセラミックス。
IPC (5件):
C03C10/14 ,  C03B32/02 ,  G02B1/00 ,  G03F1/14 ,  H01L21/027
FI (6件):
C03C10/14 ,  C03B32/02 ,  G02B1/00 ,  G03F1/14 B ,  H01L21/30 502P ,  H01L21/30 503A
Fターム (63件):
2H095BC27 ,  4G015EA02 ,  4G062AA11 ,  4G062BB01 ,  4G062DA06 ,  4G062DB04 ,  4G062DC01 ,  4G062DD07 ,  4G062DE02 ,  4G062DF01 ,  4G062EA03 ,  4G062EB01 ,  4G062EC01 ,  4G062ED03 ,  4G062EE03 ,  4G062EF01 ,  4G062EG03 ,  4G062FA01 ,  4G062FB02 ,  4G062FB03 ,  4G062FC03 ,  4G062FD01 ,  4G062FE01 ,  4G062FF01 ,  4G062FG01 ,  4G062FH01 ,  4G062FJ01 ,  4G062FK01 ,  4G062FL01 ,  4G062GA01 ,  4G062GA10 ,  4G062GB01 ,  4G062GC01 ,  4G062GD01 ,  4G062GE01 ,  4G062HH01 ,  4G062HH03 ,  4G062HH05 ,  4G062HH07 ,  4G062HH09 ,  4G062HH11 ,  4G062HH13 ,  4G062HH15 ,  4G062HH17 ,  4G062HH20 ,  4G062JJ01 ,  4G062JJ03 ,  4G062JJ04 ,  4G062JJ05 ,  4G062JJ07 ,  4G062JJ10 ,  4G062KK01 ,  4G062KK03 ,  4G062KK05 ,  4G062KK07 ,  4G062KK10 ,  4G062MM02 ,  4G062NN30 ,  4G062QQ02 ,  5F046CB02 ,  5F046CB17 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特公平3-77137公報
  • 米国特許4851372号明細書
  • 特許第2668057号明細書
審査官引用 (5件)
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