特許
J-GLOBAL ID:200903086075714464

低温プラズマを用いるガス中の総有機炭素のガス分析方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-071786
公開番号(公開出願番号):特開2005-257572
出願日: 2004年03月12日
公開日(公表日): 2005年09月22日
要約:
【課題】 分析ガス中に含まれる総有機炭素物質を計測する際、常温において測定可能な方法及び装置を提供する。【解決手段】 有機炭素を含むガスを、酸素雰囲気下に金属を担持した触媒の存在する系内で低温プラズマ処理してガス中の総有機炭素量を計測するガス分析方法である。また、有機炭素を含むガスを反応器に供給する手段と、酸素を反応器に供給する手段と、金属を担持した触媒を充填した低温プラズマ反応器と、反応器に電圧を印加する高電圧電源と、CO2の計測装置と、低温プラズマ反応器で分解処理されたガスを放出する手段とを備えたガス分析装置である。この方法及び装置は、低温プラズマと触媒の併用して有機炭素を常温・常圧で酸化するものであるため、装置に耐熱構造が必要なく触媒層の余熱も必要としない簡単な方法及び装置である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
有機炭素を含むガスを、酸素雰囲気下に金属を担持した触媒の存在する系内で低温プラズマ処理してガス中の総有機炭素量を計測することを特徴とするガス分析方法。
IPC (3件):
G01N31/00 ,  G01N31/10 ,  G01N31/12
FI (4件):
G01N31/00 D ,  G01N31/00 Y ,  G01N31/10 ,  G01N31/12 A
Fターム (12件):
2G042AA01 ,  2G042BA03 ,  2G042CB01 ,  2G042DA04 ,  2G042FA07 ,  2G042FA16 ,  2G042FB01 ,  2G042FB04 ,  2G042GA04 ,  2G042GA10 ,  2G042HA02 ,  2G042HA07
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献:
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