特許
J-GLOBAL ID：200903086096150005
炭素ナノチューブを製造する方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉武 賢次 (外4名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-501781
公開番号（公開出願番号）：特表2003-535794
出願日： 2001年06月01日
公開日（公表日）： 2003年12月02日
要約：
【要約】炭素ナノチューブを接触製造するための方法および装置。接触粒子が連続した工程で様々な処理条件にさらされ、その際、接触粒子は、好ましい処理条件が得られるまで反応性(接触)ガスと接触せず、それによって製造される炭素ナノチューブの量および形態が制御される。本方法は、ガスおよび接触する粒子状材料を循環および再使用し、それによってコスト効率を最大にし、廃棄物を減少させ、追加原料の必要性を下げ、炭素ナノチューブ、特にSWNT、を大量に、低コストで製造する方法および装置も意図している。
請求項（抜粋）：
炭素ナノチューブの製造方法であって、 接触粒子を反応器に供給し、 該接触粒子が担体材料と触媒とを含んでなり、該触媒が炭素含有ガスを炭素ナノチューブへ転化することを触媒するのに有効なものであり、 前記接触粒子から空気を除去し、 前記接触粒子を還元性条件に曝し前記接触粒子を還元し、還元された接触粒子を形成し、 前記還元された接触粒子を反応温度に予備加熱し、 前記還元された接触粒子を、反応温度に加熱された炭素含有ガスに、昇圧下で、炭素ナノチューブの接触生成を引き起こすのに十分な時間曝し、それにより炭素ナノチューブを含む反応した接触粒子を形成することにより、炭素ナノチューブを接触的に形成し、 前記反応した接触粒子から炭素含有ガスを洗い流し、 前記反応した接触粒子を冷却し、 前記反応した接触粒子を処理し、接触粒子上に付着した無定形炭素を除去し、半精製した接触粒子を形成し、 前記半精製した接触粒子を処理し、前記触媒から担体材料を分離し、 前記触媒を処理し、前記触媒から炭素ナノチューブを分離し、 前記担体材料と前記触媒とを回収し、再度組み合わせ、再生された接触粒子を形成し、そして 前記再生された接触粒子を前記反応器に供給することを含んでなる、方法。
Fターム (22件)：
4G146AA12
, 4G146BA08
, 4G146BA12
, 4G146BA48
, 4G146BB08
, 4G146BB11
, 4G146BB22
, 4G146BC08
, 4G146BC28
, 4G146BC31A
, 4G146BC43
, 4G146BC44
, 4G146BC46
, 4G146BC48
, 4G146CA02
, 4G146CA11
, 4G146CA15
, 4G146DA03
, 4G146DA13
, 4G146DA27
, 4G146DA29
, 4G146DA30
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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