特許
J-GLOBAL ID:200903086167651558
多孔質構造体の製造方法、多孔質構造体形成材料、パターン形成方法、パターン形成材料、電気化学セル、および中空糸フィルター
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (6件):
鈴江 武彦
, 河野 哲
, 中村 誠
, 蔵田 昌俊
, 村松 貞男
, 橋本 良郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-168960
公開番号(公開出願番号):特開2005-008882
出願日: 2004年06月07日
公開日(公表日): 2005年01月13日
要約:
【課題】工程のスループットに優れ、かなりの規則性をもったナノメーターオーダーの多孔質構造体を非常に簡便に形成できる方法を提供する。【解決手段】主鎖がエネルギー線の照射により切断されるポリマー鎖とエネルギー線に対して難分解性のポリマー鎖とを有するブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーを含有する多孔質構造体形成材料からなる成形体を形成する工程と、前記成形体をアニールして前記成形体中にミクロ相分離構造を形成する工程と、前記成形体にエネルギー線を照射して、ミクロ相分離構造中の1つのポリマー相の主鎖を切断する工程と、エッチングにより、主鎖が切断されたポリマー相を選択的に除去して、残存した他のポリマー相からなる多孔質構造体を形成する工程とを具備した多孔質構造体の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
主鎖がエネルギー線の照射により切断されるポリマー鎖とエネルギー線に対して難分解性のポリマー鎖とを有するブロックコポリマーまたはグラフトコポリマーを含有する多孔質構造体形成材料からなる成形体を形成する工程と、
前記成形体をアニールして前記成形体中にミクロ相分離構造を形成する工程と、
前記成形体にエネルギー線を照射して、ミクロ相分離構造中の1つのポリマー相の主鎖を切断する工程と、
エッチングにより、主鎖が切断されたポリマー相を選択的に除去して、残存した他のポリマー相からなる多孔質構造体を形成する工程と
を具備したことを特徴とする多孔質構造体の製造方法。
IPC (5件):
C08J9/26
, B01D69/08
, G11B5/84
, H01L21/3065
, H01M2/16
FI (6件):
C08J9/26 102
, C08J9/26
, B01D69/08
, G11B5/84 Z
, H01M2/16 P
, H01L21/302 105A
Fターム (71件):
4D006GA07
, 4D006MA01
, 4D006MA06
, 4D006MC24X
, 4D006MC37X
, 4D006MC81
, 4D006MC82
, 4D006NA32
, 4D006NA54
, 4D006NA62
, 4F074AA08B
, 4F074AA32B
, 4F074AA33B
, 4F074AA38B
, 4F074AA47B
, 4F074AA48B
, 4F074AA49B
, 4F074AA76B
, 4F074AA90B
, 4F074AH03
, 4F074CB01
, 4F074CB02
, 4F074CB12
, 4F074CB16
, 4F074CB17
, 4F074CB22
, 4F074CC04X
, 4F074CC10X
, 4F074CC27Z
, 4F074CC37Y
, 4F074CC48Y
, 4F074DA47
, 5D112AA02
, 5D112AA05
, 5D112AA24
, 5D112BA02
, 5D112BA03
, 5D112BA09
, 5D112BB01
, 5D112GA20
, 5D112GA27
, 5F004AA09
, 5F004BA20
, 5F004DA01
, 5F004DB01
, 5F004DB09
, 5F004EA03
, 5F004FA05
, 5H018AA06
, 5H018AS07
, 5H018CC03
, 5H018CC06
, 5H018EE02
, 5H018EE03
, 5H018EE17
, 5H021BB13
, 5H021BB15
, 5H021EE06
, 5H021EE10
, 5H026AA06
, 5H026CX05
, 5H026EE19
, 5H029AJ14
, 5H029AK03
, 5H029AL06
, 5H029AM03
, 5H029AM05
, 5H029AM07
, 5H029CJ12
, 5H029DJ04
, 5H029DJ13
引用特許:
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