多段基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小野由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-362180
公開番号（公開出願番号）：特開2000-183019
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】複数の湿式処理ユニットと乾式処理ユニットとを有する基板処理装置を多段に構成し、且つメンテナンス性を確保する。【解決手段】基板処理装置1は、1段目に配置される複数の湿式処理ユニット(洗浄ユニット10,レジスト塗布ユニット30)と、湿式処理ユニットの上方に積層される複数の乾式処理ユニット(脱水ベークユニット20,プリベークユニット40)と、上下動ロボット2a,51,52とを備えている。湿式処理ユニットは、湿式処理部(洗浄部13,スピンコータ部32)を含んでいる。乾式処理ユニットは、複数の乾式処理部(加熱部21,41、冷却部22,42)から構成される。上下動ロボット2a,51,52は、湿式処理ユニットと乾式処理ユニットとの間で基板の移載を行う。

請求項（抜粋）：

処理液を使用する湿式処理部を含む複数の処理部から成る複数の湿式処理ユニットと、処理液を使用しない複数の乾式処理部から成る複数の乾式処理ユニットと、前記湿式処理ユニットと前記乾式処理ユニットとの間で基板の移載を行う複数の基板移載手段と、を備え、前記複数の湿式処理ユニットを1段目に配置し、前記複数の乾式処理ユニットを前記複数の湿式処理ユニットの上方に積層した、多段基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/304 648 , H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 648 J , H01L 21/304 648 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

処理システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-257596 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開平4-085812
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-095025 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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