特許
J-GLOBAL ID：200903086198121123

高周波加熱装置

発明者：
阿波根 明

阿波根 明 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-077076
公開番号（公開出願番号）：特開平11-270857
出願日： 1998年03月25日
公開日（公表日）： 1999年10月05日
要約：
【要約】【課題】 本発明は高周波加熱装置に関するもので、マイクロ波を被加熱物に照射するとき、均一に加熱することを課題とする。【解決手段】 加熱室14と電磁波発生手段11と被加熱物15と被加熱物支持台16から構成してある。被加熱物支持台16は一部が電磁波吸収体17となっている。従って、被加熱物15だけでなく被加熱物支持台16の電磁波吸収体17にも電磁波が吸収され、その電磁波のエネルギーが被加熱物15の温度上昇の低い部分へ伝導されることにより、加熱の不均一さを低減することができる。
請求項（抜粋）：
電導体で囲まれた加熱室と、前記加熱室に電磁波を供給するための電磁波発生手段と、前記電磁波発生手段から放射させる電磁波を前記加熱室に導く導波管と、前記加熱室と前記導波管との接続部に設けられた前記加熱室への開口部と、一部が電磁波吸収体となっている被加熱物を載置する被加熱物支持台とからなる高周波加熱装置。
IPC (2件)：
F24C 7/02 511 ,  H05B 6/74
FI (2件)：
F24C 7/02 511 C ,  H05B 6/74 A
引用特許：
審査官引用 (7件)
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