特許
J-GLOBAL ID：200903086199502929
レーザ加工装置およびレーザ加工方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小池 隆彌
, 木下 雅晴
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-347935
公開番号（公開出願番号）：特開2005-116729
出願日： 2003年10月07日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 レーザ光のプロファイルが変化する場合においても、被加工体に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度を一定に保持することができるレーザアニール装置を提供する。【解決手段】 レーザアニール装置10は、レーザ発振器ユニット11から出射されるレーザ光を、照射光学系ユニット12で基板17の照射位置に照射するに際し、レーザ光のエネルギをジュールメータ13で検出し、レーザ光のプロファイルをプロファイルメータ14で検出し、これらの検出出力に基づいて、基板17に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度を演算手段15で演算し、演算手段15の出力に応じて基板17に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度が予め定める一定の値になるように制御手段16によって制御する。この制御によって、基板17に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度が一定に保持される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被加工体にレーザ光を照射することによって加工を施すレーザ
加工装置であって、
レーザ光を出射する光源と、
光源から出射されるレーザ光を被加工体の照射位置に照射する照射光学系と、
被加工体に照射されるレーザ光のエネルギを検出するエネルギ検出手段と、
被加工体に照射されるレーザ光のプロファイルを検出するプロファイル検出手
段と、
エネルギ検出手段およびプロファイル検出手段の検出出力に基づいて、被加工
体に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度を演算する演算手段と、
演算手段の出力に応答し、被加工体に照射されるレーザ光の平均エネルギ密度
が予め定める一定の値になるように制御する制御手段とを含むことを特徴とする
レーザ加工装置。
IPC (3件)：
H01L21/268
, B23K26/00
, H01L21/20
H01L21/268 T
, B23K26/00 P
, H01L21/20
4E068CA02
, 4E068CB01
, 4E068CC01
, 5F052AA02
, 5F052BA07
, 5F052BA18
, 5F052BB02
, 5F052BB06
, 5F052BB07
, 5F052CA07
, 5F052DA02
