特許
J-GLOBAL ID：200903086236081734
大気圧プラズマ生成方法および装置並びに表面処理方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-169011
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016696
出願日： 1997年06月25日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 ヘリウムガスなどの希ガスを用いずに、または希ガスの使用量と少なくして大気圧下において容易にプラズマを生成することができるようにする。【解決手段】 誘電体からなるセル12には、ガス流路14が形成してある。セル12の一端側には、第1ガス供給ヘッド16が設けてあって、予備放電用ガスを大気圧したにあるガス流路14に供給できるようにしてある。予備放電用ガスは、低周波電極26に印加された低周波電圧によって電離または活性化され、低周波電極26と高周波電極28との間に設けた第2ガス供給ヘッド30から流入した主放電用ガスとともにプラズマ生成領域38に供給される。高周波電極28は、プラズマ生成領域38のガスに高周波電界を作用し、グロー放電を発生させてプラズマを生成する。
請求項（抜粋）：
低周波電圧が印加されている予備放電電極間に放電用ガスを供給し、少なくともその一部を電離または活性化して大気圧またはその近傍の圧力下にある主放電電極間に供給し、前記主放電電極間に高周波電圧を印加してプラズマを発生させることを特徴とする大気圧プラズマ生成方法。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23F 4/00
, H01L 21/027
, H01L 21/3065
H05H 1/46 A
, H05H 1/46 L
, C23F 4/00 E
, H01L 21/30 572 A
, H01L 21/302 B
