特許

J-GLOBAL ID：200903086281045439

シリコンウエハーの洗浄方法

発明者： 高島 正之 ,  讃良 憲一
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-037497
公開番号（公開出願番号）：特開平9-298180
出願日： 1997年02月21日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：

【要約】【課題】洗浄液からの金属不純物の吸着による汚染を防止すると共に、薬品の蒸発や分解を抑えたまま良好な粒子除去効果を有するシリコンウエハーの洗浄方法を提供する。【解決手段】〔1〕シリコンウエハーの表面を、無機もしくは有機のアルカリと過酸化水素水と水とを主たる構成成分とする混合液で洗浄する工程と、該洗浄する工程後シリコンウエハーの表面を超純水でリンスする工程とを含むシリコンウエハーの洗浄方法において、該混合液に錯化剤を添加し、かつ該混合液で洗浄する工程において該混合液に40°C以下で超音波を照射する、及び/又は該超純水に錯化剤を添加し、かつ該超純水でリンスする工程において該超純水に40°C以下で超音波を照射するシリコンウエハーの洗浄方法。〔2〕錯化剤がエチレンジアミン4酢酸である〔1〕記載のシリコンウエハーの洗浄方法。〔3〕超音波が800kHz以上の周波数である〔1〕記載のシリコンウエハーの洗浄方法。

請求項（抜粋）：

シリコンウエハーの表面を、無機もしくは有機のアルカリと過酸化水素水と水とを主たる構成成分とする混合液で洗浄する工程と、該洗浄する工程後シリコンウエハーの表面を超純水でリンスする工程とを含むシリコンウエハーの洗浄方法において、該混合液に錯化剤を添加し、かつ該混合液で洗浄する工程において該混合液に40°C以下で超音波を照射すること、及び/又は該超純水に錯化剤を添加し、かつ該超純水でリンスする工程において該超純水に40°C以下で超音波を照射することを特徴とするシリコンウエハーの洗浄方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/12

FI (4件)：

H01L 21/304 341 M ,  H01L 21/304 341 L ,  B08B 3/08 A ,  B08B 3/12 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 新規な表面処理方法及び処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-027496   出願人：和光純薬工業株式会社
• 特開昭62-045126
  
• 特開昭62-045126