特許
J-GLOBAL ID:200903086285221576

核酸分子の合成を増強するための組成物および方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 秀策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-535767
公開番号(公開出願番号):特表2002-505886
出願日: 1999年03月15日
公開日(公表日): 2002年02月26日
要約:
【要約】本発明は、核酸分子、特にGCリッチ核酸分子の合成を増強させるための組成物および方法に関する。詳細には、本発明は、式Iおよび式IIからなる群より選択される式を有する1つ以上の窒素含有有機化合物(またはそれらの塩もしくは誘導体)、好ましくは4-メチルモルホリンN-オキシドまたはベタイン(カルボキシメチルトリメチルアンモニウム)を含む組成物、ならびにプロリンおよびN-アルキルイミダゾール化合物、より好ましくはプロリン、1-メチルイミダゾールもしくは4-メチルイミダゾールからなる群より選択される1つ以上の化合物をさらに含む組成物を提供する。本発明はさらに、増幅(特にPCR)、逆転写、および配列決定による方法を含む、増強された高忠実度の核酸分子の合成についての方法に関する。本発明はまた、これらの方法によって合成される核酸分子、それらのフラグメントもしくは誘導体、ならびにこのような核酸分子、フラグメント、もしくは誘導体を含むベクターおよび宿主細胞に関する。本発明はまた、本発明の1つ以上の組成物を含む核酸分子の合成、増幅、逆転写または配列決定のためのキットに関する。
請求項(抜粋):
核酸分子を合成する際に使用するための組成物であって、該組成物が、以下の式Iもしくは式IIからなる群より選択される化学式を有する1つ以上の化合物、またはそれらの塩もしくは誘導体を含む組成物であって、【化1】 ここで、Aは【化2】であり; ここで、Xは【化3】であり; ここで、q=1〜100,000であって、ここでq=2〜100,000である場合、式Iの各モノマーは式Iの他のモノマーと同じであっても異なっていてもよく; ここで、ZはYと同じであっても異なっていてもよく; ここで、各YおよびZは、-OH、-NH2、-SH、-PO3H、-CO2H、-SO3Hおよび水素からなる群より独立して選択され; ここで、fは0〜2の整数であり、mは0〜20の整数であり、そしてeは0〜2の整数であり; ここで、R4、R5およびR6は同じであっても異なっていてもよく、そして水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アミノ、メルカプタン、チオール、ハロ、ニトロ、ニトリロ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアリール、ホスファト、アルコキシ、オキシド、エーテル、エステル(アルカノイルオキシ)、カルボキシ、カルボニル、スルホニル、スルホンおよびアミド基からなる群より独立して選択され、そしてdは0〜2の整数であり; ここで、a、b、およびcは独立して、0〜1の整数であり、ただし、a、d、およびcのうち2つより多くは0でなく; ここで、R1、R2およびR3は、同じであっても異なっていてもよく、そして以下:a)=O;b)【化4】からなる群より独立して選択され; ここで、各R7およびWは、同じであっても異なっていてもよく、そして水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アミノ、チオール、メルカプタン、ハロ、ニトロ、ニトリロ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアリール、ホスファト、アルコキシ、オキシド、エーテル、エステル(アルカノイルオキシ)、カルボキシ、カルボニル、スルホニル、スルホンおよびアミド基からなる群より独立して選択され;gは0〜2の整数であり、そしてnは0〜20の整数であり;【化5】 ここで、式IIは飽和または不飽和であり; ここで、q=1〜100,000であり、ここでq=2〜100,000の場合、式IIの各モノマーは式IIの他の各モノマーと同じであっても異なっていてもよく; ここで、XはN、C、O、PおよびSからなる群より選択され; ここで、YはO、N、S、P、C、-O-NH-、-O-CH2-NH-、-O-CH2-O-、-NH-CH2-NH-、-O-CH(CH3)-NH-、-NH-CH(CH3)-NH-、-O-CH(CH3)-O-、-NH-C(CH3)2-NH-、-O-S-、-O-CH2-S-、-NH-S-、-NH-CH2-S-および他のメルカプタン、ホスファト、アルコキシ、オキシド、エーテル、エステル(アルカノイルオキシ)、カルボキシ、スルホニル、スルホンおよびアミド基からなる群より選択され; ここで、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、およびR8は、同じてあっても異なっていてもよく、そして水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アミノ、チオール、メルカプタン、ハロ、ニトロ、ニトリロ、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、ヒドロキシアリール、ホスファト、アルコキシ、オキシド、エーテル、エステル(アルカノイルオキシ)、カルボキシ、スルホニル、スルホンおよびアミド基からなる群より独立して選択され;そして ここで、a、b、c、d、e、m、n、およびoは、同じであっても異なっていてもよい整数であり、そしてa、b、c、d、およびeについては0〜2より、そしてm、n、およびoについては0〜5より独立して選択される、組成物。
IPC (3件):
C12P 19/34 ,  C12N 15/09 ,  C12Q 1/68
FI (3件):
C12P 19/34 A ,  C12Q 1/68 A ,  C12N 15/00 A
Fターム (18件):
4B024AA20 ,  4B024BA80 ,  4B024CA01 ,  4B024CA11 ,  4B024HA19 ,  4B024HA20 ,  4B063QA01 ,  4B063QA13 ,  4B063QA18 ,  4B063QQ42 ,  4B063QQ53 ,  4B063QR08 ,  4B063QR55 ,  4B063QR62 ,  4B063QS02 ,  4B063QS25 ,  4B064AF27 ,  4B064DA13
引用特許:
審査官引用 (1件)

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