特許

J-GLOBAL ID：200903086290723458

金属含量の低減されたフェノール化合物の製造方法

発明者： 坂本 宏
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-296491
公開番号（公開出願番号）：特開2001-114717
出願日： 1999年10月19日
公開日（公表日）： 2001年04月24日
要約：

【要約】【課題】 フェノール化合物中に含まれる金属不純物を除去するにあたり、短い加工時間及び高い容積効率のもとで、廃水量を少なくできる方法を提供する。【解決手段】 金属不純物を含有するフェノール化合物を有機溶媒に溶解し、その溶液をイオン交換樹脂と接触させることにより、金属含量の低減されたフェノール化合物を製造する。フェノール化合物を有機溶媒に溶解した溶液とイオン交換樹脂との接触は、その溶液にイオン交換樹脂を加えて攪拌混合することにより行うのが有利である。接触処理が終わった後の溶液からは、晶析などにより、金属含量の低減されたフェノール化合物を取り出すことができる。

請求項（抜粋）：

金属不純物を含有するフェノール化合物を有機溶媒に溶解し、その溶液をイオン交換樹脂と接触させることを特徴とする、金属含量の低減されたフェノール化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C07C 37/82 ,  B01D 15/04 ,  B01J 39/04 ,  C07C 39/17

FI (4件)：

C07C 37/82 ,  B01D 15/04 ,  B01J 39/04 H ,  C07C 39/17

Fターム (32件)：

4D017AA06 ,  4D017BA12 ,  4D017BA13 ,  4D017CA17 ,  4D017CB01 ,  4D017DA07 ,  4D017EB05 ,  4D017EB07 ,  4D017EB09 ,  4H006AA02 ,  4H006AD15 ,  4H006AD17 ,  4H006BA05 ,  4H006BA06 ,  4H006BA07 ,  4H006BA09 ,  4H006BA10 ,  4H006BA11 ,  4H006BA14 ,  4H006BA16 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA72 ,  4H006BB14 ,  4H006BB47 ,  4H006BC51 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BN30 ,  4H006DA64 ,  4H006FE13

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開昭55-134647
  
• 高純度感光性樹脂組成物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-025587   出願人：三菱化成株式会社
• 特開平2-088634
  
• 特開昭55-134647
  
• 特開平2-088634