特許
J-GLOBAL ID：200903086389890224

エンボスシート作成方法および画像処理装置

発明者：
河合 直樹

河合 直樹 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (1件)： 金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-025093
公開番号（公開出願番号）：特開2000-218719
出願日： 1999年02月02日
公開日（公表日）： 2000年08月08日
要約：
【要約】【課題】 底光りが少なく、十分なつや消し効果を有するエンボスシート、さらに好ましくは、表面の凹凸形状に方向性が出ないエンボスシートの作成方法および装置を提供する。【解決手段】 スカラー場を生成する工程(S2)と、生成されたスカラー場を複数の閾値を用いて各閾値毎に2値化したマスク画像を生成する工程(S3)と、生成された複数のマスク画像を用いて段階的にエッチングを行う工程(S4)の後、エンボス加工を行うことにより、エンボスシートを作成する。
請求項（抜粋）：
スカラー場を生成する工程と、生成された前記スカラー場を複数の閾値を用いて各閾値毎に2値化したマスク画像を生成する工程と、生成された複数のマスク画像を用いて異なる深さを持つエンボスシートを作成する工程と、を有することを特徴とするエンボスシート作成方法。
IPC (2件)：
B31F 1/07 ,  G06F 17/50
FI (2件)：
B31F 1/07 ,  G06F 15/60 680 G
Fターム (7件)：
3E078AA20 ,  3E078BB51 ,  3E078BC04 ,  3E078DD09 ,  5B046AA03 ,  5B046FA13 ,  5B046JA07
引用特許：
審査官引用 (3件)

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