PZT膜のドライエッチング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：志賀正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-238538
公開番号（公開出願番号）：特開平7-094471
出願日： 1993年09月24日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：

【要約】【目的】ある所定の条件下においてエッチング加工を可能とするPZT膜のドライエッチング方法を提供する。【構成】エッチングガスとしてCHF3、SF6、およびこれらの混合ガスを適用することによってPZT膜のドライエッチングが可能となる。さらに、処理圧力を15〜30mTorrの領域に保持すると、エッチングレートを約48nm/min程度の高いレベルで制御することができる。

請求項（抜粋）：