特許
J-GLOBAL ID:200903086503121449

薄膜形成装置およびその蒸発源用るつぼ並びに昇華性蒸発材料の薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 曾我 道照 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-020603
公開番号(公開出願番号):特開平7-232992
出願日: 1994年02月17日
公開日(公表日): 1995年09月05日
要約:
【要約】【目的】 この発明は、高速で、かつ、安定した成膜速度が得られる薄膜形成装置を得ることを目的とする。【構成】 るつぼ31は、内部に蒸発材料14を充填された内るつぼ33を収納する外るつぼ32と、これに螺着される底蓋34とから構成されている。この外るつぼ32は中空円筒状の蒸発材料収納部32aと、この上部に突設された小判型の噴射ノズル設置部32bとからなる。この噴射ノズル設置部32bには円錐状の噴射ノズル13が複数設けられている。このるつぼ31の外周には、蒸発材料収納部32aおよび噴射ノズル設置部32bの外周側壁面から一定間隔をもって加熱用フィラメント15がるつぼ31を包囲するように配設されている。
請求項(抜粋):
真空槽と、この真空槽内に配置された蒸発源と、この蒸発源と相対して前記真空槽内に配置された基板とを有し、前記蒸発源内に充填された蒸発材料を蒸発させて前記基板上に成膜する薄膜形成装置において、前記蒸発源が、前記蒸発材料を収容する中空の蒸発材料収容部、この蒸発材料収納部の軸心を通り前記軸心と直交する方向に所定幅をもって前記蒸発材料収納部の上部に突設された細長の噴射ノズル設置部および前記蒸発材料収納部の下部開口を塞口する底蓋を有し、前記噴射ノズル設置部に前記軸心に平行に複数設けられた噴射ノズルを除いて密閉された高融点材料からなるるつぼと、前記蒸発材料収容部および前記噴射ノズル設置部の外周側壁面から一定の間隔をもって前記るつぼを包囲するように配置されたるつぼ加熱手段とを備えていることを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (7件):
C30B 23/08 ZAA ,  B01J 19/00 ,  C01G 1/00 ,  C23C 14/24 ,  H01L 21/203 ,  C30B 29/22 501 ,  H01L 39/24 ZAA
引用特許:
審査官引用 (2件)

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