特許
J-GLOBAL ID：200903086554852367

光を用いた透明誘電体物体への微細空洞加工方法及びその装置

発明者：
伊東 一良

伊東 一良 について

, 
渡辺 歴

渡辺 歴 について

, 
李▲炎▼

李▲炎▼ について


出願人/特許権者：
科学技術振興事業団

科学技術振興事業団 について


代理人 (1件)： 清水 守
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-204516
公開番号（公開出願番号）：特開2003-020258
出願日： 2001年07月05日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：
【要約】【課題】 直径が数十ミクロンからサブミクロンの径で、長い孔を形成することができる光を用いた透明誘電体物体への微細空洞加工方法及びその装置を提供する。【解決手段】 光を用いた透明誘電体物体への微細空洞加工装置において、透明誘電体物体5と、この透明誘電体物体5の端面に接触される液体6と、前記透明誘電体物体5の端面と液体6の境界面から始めて、前記透明誘電体物体の端面の反対の端面へとずらして照射する超短光パルス照射手段1と、この超短光パルスの照射により形成された微細空洞の加工状態を画像化する画像化手段9とを具備する。
請求項（抜粋）：
透明誘電体物体の端面に液体を接触させ、前記透明誘電体物体から前記端面に超短光パルスを反対の端面より集光照射し、微細空洞加工を行うことを特徴とする光を用いた透明誘電体物体への微細空洞加工方法。
IPC (2件)：
C03C 23/00 ,  B23K 26/00 330
FI (2件)：
C03C 23/00 D ,  B23K 26/00 330
Fターム (5件)：
4E068AF00 ,  4E068DB13 ,  4G059AA00 ,  4G059AB05 ,  4G059AC30
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM