薄膜磁気ヘッドの磁極の形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石井陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-303785
公開番号（公開出願番号）：特開平10-269521
出願日： 1997年10月17日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：

【要約】【課題】薄膜磁気ヘッドの磁極をフレームめっき法により形成する際に、幅が狭く相対的に深くかつ寸法精度の良好なスペースを有するめっきフレームを形成可能とする。【解決手段】幅2μm 以下かつ深さ4μm 以上の断面をもつスペースを有するめっきフレームの形成に、下記式(1)で表される1または2以上の繰り返し単位を有しポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜6000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を、水素1原子当たり0.12〜0.22モルの1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換して得たノボラック樹脂を、アルカリ可溶性樹脂および感光剤として含有するレジスト組成物を用いる。【化3】[式(1)中、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数である。]

請求項（抜粋）：

薄膜磁気ヘッドの磁極をフレームめっき法により形成する方法であって、幅2μm 以下かつ深さ4μm 以上の断面をもつスペースを有するめっきフレームの形成に、下記式(1)で表される1または2以上の繰り返し単位を有しポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜6000であるノボラック樹脂の水酸基の水素原子を、水素1原子当たり0.12〜0.22モルの1,2-ナフトキノンジアジドスルホニル基で置換して得たノボラック樹脂を、アルカリ可溶性樹脂および感光剤として含有するレジスト組成物を用いる薄膜磁気ヘッドの磁極の形成方法。【化1】[式(1)中、nは1〜4の整数、mは0〜3の整数である。]

IPC (3件)：

G11B 5/31 , G03F 7/023 511 , C08G 8/28

FI (3件)：

G11B 5/31 C , G03F 7/023 511 , C08G 8/28

引用特許：

審査官引用 (1件)

レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-051465 出願人：信越化学工業株式会社

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