自動分析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上学
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-126202
公開番号（公開出願番号）：特開2008-281454
出願日： 2007年05月11日
公開日（公表日）： 2008年11月20日
要約：

【課題】試料サンプリングプローブ,試薬分注プローブ,攪拌機構,反応容器洗浄機構の内外壁面に付着した残留物を処理能力を損なうことなく、特別な機構を増設することなく洗浄することを可能とする自動分析装置および方法を提供する。【解決手段】異なる試料または試薬に対し共通に用いられる部位を備えた自動分析装置において、装置動作を休止する指示がなされたことに伴い、前記共通に用いられる部位の少なくとも1つを洗浄液が収容された容器に浸漬した状態で停止するよう、該部位の動作を制御する制御手段を備えたことを特徴とする自動分析装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

異なる試料または試薬に対し共通に用いられる部位を備えた自動分析装置において、装置動作を休止する指示がなされたことに伴い、前記共通に用いられる部位の少なくとも1つを洗浄液が収容された容器に浸漬した状態で停止するよう、該部位の動作を制御する制御手段を備えたことを特徴とする自動分析装置。

IPC (2件)：

G01N 35/02 , G01N 1/00

FI (2件)：

G01N35/02 E , G01N1/00 101N

Fターム (25件)：

2G052AA30 , 2G052AA32 , 2G052AD26 , 2G052CA04 , 2G052CA20 , 2G052CA32 , 2G052FB02 , 2G052FB07 , 2G052FC06 , 2G052FC15 , 2G052GA12 , 2G052HB10 , 2G052HC04 , 2G052HC07 , 2G058CB05 , 2G058CD04 , 2G058CE08 , 2G058EA02 , 2G058EA04 , 2G058ED03 , 2G058FA02 , 2G058FB02 , 2G058FB12 , 2G058FB19 , 2G058GA03

引用特許：

出願人引用 (1件)

洗剤洗浄可能な分注装置及びその洗浄方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-005921 出願人：株式会社日立製作所

審査官引用 (3件)

特開昭63-196861
特開昭63-315955
特開平2-251764

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