研磨パッド

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：鈴木崇生 , 梶崎弘一 , 尾崎雄三 , 谷口俊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-208235
公開番号（公開出願番号）：特開2005-068175
出願日： 2003年08月21日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】平坦性、面内均一性、研磨速度が良好であり、研磨速度の変化が少なく、さらに寿命特性に優れる研磨パッドを提供すること。また、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供すること。【解決手段】微細気泡を有するポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドであって、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、水酸基以外の親水性基を有しない疎水性高分子量ポリオール成分とイソシアネート成分とを原料成分として含有してなる疎水性イソシアネート末端プレポリマー(A)、エチレンオキサイド単位(-CH2 CH2 O-)を有する親水性高分子量ポリオール成分とイソシアネート成分とを原料成分として含有してなる親水性イソシアネート末端プレポリマー(B)、及び鎖延長剤を原料成分として含有してなることを特徴とする研磨パッド。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

微細気泡を有するポリウレタン樹脂発泡体からなる研磨層を有する研磨パッドであって、前記ポリウレタン樹脂発泡体は、水酸基以外の親水性基を有しない疎水性高分子量ポリオール成分とイソシアネート成分とを原料成分として含有してなる疎水性イソシアネート末端プレポリマー(A)、エチレンオキサイド単位(-CH2 CH2 O-)を有する親水性高分子量ポリオール成分とイソシアネート成分とを原料成分として含有してなる親水性イソシアネート末端プレポリマー(B)、及び鎖延長剤を原料成分として含有してなることを特徴とする研磨パッド。

IPC (6件)：

C08G18/10 , B24B37/00 , B32B5/18 , B32B27/40 , C08J5/14 , H01L21/304

FI (6件)：

C08G18/10 , B24B37/00 C , B32B5/18 , B32B27/40 , C08J5/14 , H01L21/304 622F

Fターム (66件)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CB01 , 3C058DA17 , 4F071AA53 , 4F071AE01 , 4F071AE10 , 4F071AF21 , 4F071AF26 , 4F071AH17 , 4F071DA20 , 4F100AK51B , 4F100AK51K , 4F100AK52B , 4F100AK52H , 4F100AT00A , 4F100BA02 , 4F100CA18B , 4F100GB41 , 4F100JK15 , 4F100JL01 , 4J034BA08 , 4J034CA01 , 4J034CA04 , 4J034CA05 , 4J034CA15 , 4J034CB03 , 4J034CB04 , 4J034CC03 , 4J034CC12 , 4J034DA01 , 4J034DB03 , 4J034DC50 , 4J034DF01 , 4J034DF02 , 4J034DF03 , 4J034DF16 , 4J034DF20 , 4J034DG03 , 4J034DG04 , 4J034DG05 , 4J034DG06 , 4J034DG08 , 4J034DG09 , 4J034DG18 , 4J034HA01 , 4J034HA02 , 4J034HA06 , 4J034HA07 , 4J034HC03 , 4J034HC12 , 4J034HC13 , 4J034HC22 , 4J034HC61 , 4J034HC64 , 4J034HC67 , 4J034HC71 , 4J034HC73 , 4J034JA01 , 4J034JA42 , 4J034NA01 , 4J034NA09 , 4J034QB16 , 4J034QC01 , 4J034QD03 , 4J034RA11

引用特許：

出願人引用 (3件)

研磨パッドの製造方法及び研磨パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-208234 出願人：東洋ゴム工業株式会社
研磨パッド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-347410 出願人：東洋紡績株式会社, 東洋ゴム工業株式会社
発泡ポリウレタン研磨パッドの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-374223 出願人：東洋ゴム工業株式会社, 東洋紡績株式会社

審査官引用 (2件)

研磨パッドの製造方法及び研磨パッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-208234 出願人：東洋ゴム工業株式会社
研磨パッド及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-347410 出願人：東洋紡績株式会社, 東洋ゴム工業株式会社

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