特許
J-GLOBAL ID:200903047888930932
研磨パッド及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
鈴木 崇生 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-347410
公開番号(公開出願番号):特開2003-145414
出願日: 2001年11月13日
公開日(公表日): 2003年05月20日
要約:
【要約】【課題】研磨パッド(研磨層)を形成するマトリックス高分子材料に何らかの薬剤を用いて、親水化処理することなく、研磨スラリーに対する濡れ性が最適化された研磨パッド(研磨層)を提供する。また、研磨対象物を均一に研磨し、スクラッチも少なく、満足できる研磨速度を維持可能な研磨パッドを提供する。【解決手段】高分子材料をマトリックス材料とする研磨層を含有する研磨パッドにおいて、水に対する該高分子材料の接触角が70〜95°である研磨パッドとする。
請求項(抜粋):
高分子材料をマトリックス材料とする研磨層を有し、水に対する前記高分子材料の接触角が70〜95°であることを特徴とする研磨パッド。
IPC (6件):
B24B 37/00
, C08G 18/48
, C08J 5/14 CFF
, H01L 21/304 622
, C08G101:00
, C08L 75:08
FI (6件):
B24B 37/00 C
, C08G 18/48 F
, C08J 5/14 CFF
, H01L 21/304 622 F
, C08G101:00
, C08L 75:08
Fターム (70件):
3C058AA07
, 3C058CB01
, 3C058CB03
, 3C058DA17
, 4F071AA53
, 4F071AA65
, 4F071AC16
, 4F071AE10
, 4F071AF06Y
, 4F071DA17
, 4F071DA20
, 4J034BA06
, 4J034BA07
, 4J034BA08
, 4J034CA03
, 4J034CA04
, 4J034CA14
, 4J034CA15
, 4J034CB02
, 4J034CB03
, 4J034CB07
, 4J034CC03
, 4J034CC08
, 4J034CC12
, 4J034CC26
, 4J034CC45
, 4J034CC52
, 4J034CC62
, 4J034CC65
, 4J034CC67
, 4J034CD06
, 4J034CD08
, 4J034CD13
, 4J034DA01
, 4J034DB03
, 4J034DB04
, 4J034DB07
, 4J034DF02
, 4J034DF12
, 4J034DF16
, 4J034DF20
, 4J034DG03
, 4J034DG04
, 4J034DG06
, 4J034HA01
, 4J034HA06
, 4J034HA07
, 4J034HC03
, 4J034HC12
, 4J034HC13
, 4J034HC22
, 4J034HC46
, 4J034HC52
, 4J034HC54
, 4J034HC61
, 4J034HC64
, 4J034HC67
, 4J034HC71
, 4J034HC73
, 4J034JA42
, 4J034MA17
, 4J034NA01
, 4J034NA08
, 4J034QA02
, 4J034QA03
, 4J034QA05
, 4J034QC01
, 4J034RA11
, 4J034RA19
, 4J034SA02
引用特許:
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