特許
J-GLOBAL ID：200903086787234019

ガスクラスタ・イオン・ビームを測定しかつ制御する方法とそのための装置

発明者：
スウェンソン,デビッド,アール.

スウェンソン,デビッド,アール. について


出願人/特許権者：
エピオン コーポレーション

エピオン コーポレーション について


代理人 (5件)： 廣江 武典 ,  武川 隆宣 ,  ▲高▼荒 新一 ,  中村 繁元 ,  西尾 務
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-503056
公開番号（公開出願番号）：特表2006-519982
出願日： 2004年01月27日
公開日（公表日）： 2006年08月31日
要約：
平均クラスタ・イオン速度v、平均クラスタ・イオン質量m、平均クラスタ・イオン・エネルギーE、平均クラスタ・イオン電荷状態q、電荷当たりの平均クラスタ・イオン質量(m/q)average及び電荷当たりの平均エネルギー(E/q)averageを含むクラスタ・イオン・ビーム(306)におけるクラスタの特性を測定/制御するための方法と装置(300)が開示されている。測定値は、ガスクラスタ・イオン・ビーム照射によるワークピースの最適処理にとって極めて重要なガスクラスタ・イオン・ビームの特性を監視しかつ制御するためにガスクラスタ・イオン・ビームのプロセス・システムにおいて使用される。
請求項（抜粋）：
減圧チャンバ内にビーム経路を有するクラスタ・イオン・ビームにおけるクラスタ・イオンの平均電荷状態〈q〉を決定する方法であって、 上記減圧チャンバ内に、クラスタ・イオン・ビーム減衰器と、粒子流量測定手段と、クラスタ・イオン・ビーム電流測定手段とを供給するステップと、 上記クラスタ・イオン・ビーム減衰器を上記クラスタ・イオン・ビームの経路内に配置して上記クラスタ・イオン・ビームの減衰されたサンプルを形成するステップと、 上記クラスタ・イオン・ビームの減衰されたサンプルの粒子流量Γと、上記クラスタ・イオン・ビームの減衰されたサンプルのクラスタ・イオン・ビーム電流Iとを順に測定するステップと、 上記クラスタ・イオン・ビームにおけるクラスタ・イオンの平均電荷状態〈q〉の測度を次式、即ち、
IPC (3件)：
G01N 27/62 ,  C23C 14/32 ,  B01J 19/08
FI (4件)：
G01N27/62 E ,  G01N27/62 K ,  C23C14/32 F ,  B01J19/08 Z
Fターム (16件)：
2G041CA04 ,  2G041DA13 ,  2G041DA16 ,  2G041GA06 ,  4G075AA03 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BA08 ,  4G075BC01 ,  4G075BC02 ,  4G075BC06 ,  4G075CA39 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4K029CA03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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